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SGL Group präsentiert ihr Produktportfolio aus Feinkorngraphiten für die Halbleiterindustrie auf der CS ManTech

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SGL Group präsentiert ihr Produktportfolio aus Feinkorngraphiten für die Halbleiterindustrie auf der CS ManTech

Monokristallziehen

St. Mary‘s, 22. Mai 2017. Die SGL Group präsentiert ihr umfangreiches Angebot an Graphitprodukten für die Halbleiterindustrie auf der CS ManTech, der alljährlich stattfindenden Fachmesse der Industrie. Auf der Veranstaltung, die vom 22.-25. Mai im Hyatt Regency Indian Wells Resort & Spa in Indian Wells, Kalifornien, USA, stattfindet, treffen sich Experten aus der ganzen Welt zu Fachgesprächen, Workshops und Ausstellungen. Das Team der SGL Group stellt an Stand #115 aus.

Dort werden die Spezialgraphite des Unternehmens für die Halbleiterindustrie gezeigt, unter anderem Anwendungen für die metallorganische Gasphasenepitaxie (Metal Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD), für die Silizium-Epitaxie, für die Herstellung von Polysilizium, für die Halbleiter- und Saphir-Einkristall-Herstellung. Die Materialien der SGL Group erreichen eine hohe Reinheit und weisen eine gleichmäßige Wärmeleitfähigkeit auf. Im Zusammenspiel mit dem hochpräzisen Verarbeitungs-Know-how sowie den umfassenden Qualitätskontrollen strebt die SGL danach, zuverlässige und maßgeschneiderte Produkte für die spezifischen Anforderungen der Kunden herzustellen.

Sie sind herzlich eingeladen, den Stand der SGL auf der CS ManTech 2017 zu besuchen. Unser Team freut sich darauf, Ihre Fragen zu unseren Spezialgraphitprodukten für die Halbleiterindustrie zu beantworten. Nähere Informationen zur CS ManTech finden Sie unter folgendem Link: http://csmantech.org/ .

 


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